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  • MPCVD(金剛石).1.jpg

MPCVD設備


所屬分類(lèi):

第三代半導體工藝設備


概要:

? 微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)(MPCVD) , 通過(guò)等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態(tài)好的高質(zhì)量的金剛石單晶和多晶薄膜


關(guān)鍵詞:

MPCVD



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SiC高溫氧化設備

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