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SiC高溫退火設備


所屬分類(lèi):

第三代半導體工藝設備

第一代半導體工藝設備


概要:

? 專(zhuān)門(mén)用于硅碳化合物(SiC) 的離子激活和退火處理,可實(shí)現SiC片在高溫真空環(huán)境下完成活性工藝 ? 設備適用于SiC基功率器件制造中的離子激活和退火工藝環(huán)節 ? 加熱腔與工藝腔獨立密閉設計,提供工藝腔的潔凈度


關(guān)鍵詞:

SiC高溫退火



SiC高溫退火設備


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