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氧化/擴(kuò)散設(shè)備


所屬分類:

第一代半導(dǎo)體工藝設(shè)備


概要:

? 該設(shè)備是半導(dǎo)體生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一,用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件等行業(yè)的擴(kuò)散、氧化、退火、合金和燒結(jié)等工藝 ? 設(shè)計(jì)了硅片生產(chǎn)的多種工藝性能需要,具有生長(zhǎng)效率高、產(chǎn)品性能優(yōu)越的特點(diǎn) ? 具有污染低、占地面積小、溫度均勻、可裝載晶圓尺寸大、工藝穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn) ? 主要用于初始氧化層、屏蔽氧化層、襯墊氧化層、犧牲氧化層、場(chǎng)氧化層等多種氧化介質(zhì)層的制備工藝


關(guān)鍵詞:

氧化/擴(kuò)散



氧化/擴(kuò)散設(shè)備


上一個(gè)

上一個(gè)

真空退火設(shè)備

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