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氧化/擴散設備


所屬分類(lèi):

第一代半導體工藝設備


概要:

? 該設備是半導體生產(chǎn)線(xiàn)前工序的重要工藝設備之一,用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件等行業(yè)的擴散、氧化、退火、合金和燒結等工藝 ? 設計了硅片生產(chǎn)的多種工藝性能需要,具有生長(cháng)效率高、產(chǎn)品性能優(yōu)越的特點(diǎn) ? 具有污染低、占地面積小、溫度均勻、可裝載晶圓尺寸大、工藝穩定性高等優(yōu)點(diǎn) ? 主要用于初始氧化層、屏蔽氧化層、襯墊氧化層、犧牲氧化層、場(chǎng)氧化層等多種氧化介質(zhì)層的制備工藝


關(guān)鍵詞:

氧化/擴散



氧化/擴散設備


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真空退火設備

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