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  • PECVD設備.2.jpg

PECVD 臥式


所屬分類(lèi):

第一代半導體工藝設備


概要:

? PECVD主要應用于氧化硅(SiO?) 和氮化硅(SiN4) 材料的薄膜生長(cháng),工作原理是在低壓引入高頻射頻電源,采取電容耦合方式使工藝氣體電離放電,形成等離子體狀態(tài),產(chǎn)生大量的活性基團,這些活性基團在襯底材料表面發(fā)生化學(xué)反應并沉積到襯底表面,生長(cháng)出氧化硅(SiO?) 或氮化硅(SiN4) 薄膜


關(guān)鍵詞:

PECVD (立式/臥式)



PECVD 臥式


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