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LPCVD 臥式


所屬分類(lèi):

第一代半導體工藝設備


概要:

? LPCVD設備是半導體集成電路制造的重要設備之一, 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生長(cháng),它是將原材料氣體(或者液態(tài)源氣化)用熱能激活發(fā)生化學(xué)反應而在基片表面生成固體薄膜,LPCVD過(guò)程是在低壓下進(jìn)行的,由于氣壓低,氣體分子平均自由程大,使生長(cháng)的薄膜均勻性好,此外基片可以豎放使得設備裝片量大,特別適用于工業(yè)化生產(chǎn)


關(guān)鍵詞:

LPCVD (立式/臥式)



LPCVD 臥式


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